2024北京国际光刻设备及光掩膜技术展览会
Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024
>>基本信息
时间：2024年7月24-26日
地点：北京国家会议中心
>>展会简介
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2024北京国际光刻设备及光掩膜应用技术展览会”将于7月24-26日在北京国家会议中心隆重举办，欢迎广大相关单位参展、参观！
>>展会亮点
收集最新的高质量销售资讯，结识高质量买家并达成销售交易。
了解未来生产需求发展全球战略。
与全国代理、经销商构建销售网络。
通过与各地生产商和买家的合作来发掘新的商业机会。
加强公司品牌建设，提高公司的行业知名度。
获得关于最新市场趋势、技术创新、行业最新发展动态以及的相关行业资讯。
>>为何参展
35家合作机构组团参观
形式多样的配套会议及活动，涵盖组团参观、论坛、访谈
全方位海内外渠道营销，线上与线下共同造势
超过300家行业媒体，提供全天候，一站式营销解决方案
稳固老客户，开拓新市场，发现新机遇
>>观众邀请
邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。
>>日程安排
报到布展：2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30
展出时间：2024年07月24日 AM9:30-PM16:45
2024年07月25日 AM9:30-PM16:45
2024年07月26日 AM9:30-PM16:45
>>参展范围
◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；
◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；
◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；
